設備介紹

掃描電子顯微鏡+電子束曝光

蔡司sigma300掃描電鏡用來觀察微米及亞微米級別的導電材料的材料表面結構，用途廣泛。凝聚態方向主要用來檢查制作的微型電路，波導等材料的結果鑒定。

掃描電鏡搭載Raith電子束曝光軟件，可實現維型電路的設計和曝光，最大寫場1000um，最高精度100nm。

性能指標：分辨率：20nm---10kV，加速電壓：100V-30kV, 放大倍數：50-500K，探測器：二次電子探測器SE2，Inlens探測器和紅外CCD相機。 

主要應用：適用于導電材料和非導電材料表面形貌的觀察，獲得表面形貌的二次電子像。 

樣品要求：固體非粉末干燥樣品，樣品表面干凈，無油污，無磁性，且不易被磁化，樣品中不得含有鐵（Fe）、鈷（Co）、鎳（Ni）。高度小于20mm，直徑小于50mm。 多孔類或易潮解的樣品，請提前真空干燥處理。 樣品應具有導電性。若樣品不導電，需要進行鍍金、碳等導電膜的處理。 

注：文章轉載于上海交通大學物理與天文學院公告平臺《掃描電子顯微鏡&電子束曝光》